A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维
件
拟的深亚微米工艺外延
衬底的电阻宏。
宏观
式
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摘要提出了一种基于二维器件拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻
。
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摘要提出了一种基
器件模拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻宏模。
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摘要提出了一种基于二维器件模拟的深
工艺外延衬底的电阻宏模。
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宏
模式
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摘要提出了一种基于二维器件模拟
深亚微米工艺外延衬底电阻宏模。
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